欢迎光临,12bet被封官方网站!
科力热门关键词:超声波清洗器 | 12bet被封 | 超声波发生器 | 超声波振板 | 深圳超声波清洗厂家|小型12bet被封|超声波清洗设备|工业清洗设备|超音波|超音波清洗设备|超音波清洗12bet被封|超音波清洗器|超音波震荡器|超音波控制器|超音波主12bet被封|

联系我们

+86-0755-29492199

服务邮箱:kelisonic@163.com
24H技术支持:18588468367

地址:深圳宝安松岗东方社区南边头工业C区2栋1楼

当前位置:首页 » 新闻动态 » 公司新闻

2021年中国半导体清洗湿法清洗

时间:2021-01-01| 作者:admin

半导体清洗有干法和湿法两种清洗方法,目前湿法由于其成本低产能高的优点占据主流,占整个清洗制程90%以上。湿法清洗由于使用相对多的化学试剂,也存在晶片损伤、化学污染和二次交叉污染等问题,而干法清洗虽然环境友好、化学用量少,随着半导体制程不断升级,干法清洗低磨损的优点日益突出,逐渐得到更多的关注。不过,目前干法清洗控制要求和成本较高,仍难以大量应用于半导体生产中。因此实际的半导体产线上通常是以湿法清洗为主,少量特定步骤采用干法清洗相结合的方式互补所短,构建半导体制造的清洗方案。
2019713144028799.jpg

超声清洗方法:
晶片浸没在清洗液中,利用超高频率的声波能量将晶片正面和背面的颗粒有效去除。超声波清洗的优点:清洗的速度快;清洗的效果比较好;能够清洗各种复杂形状的硅片表面;易于实现遥控和自动化。超声波清洗的缺点:颗粒尺寸较小时,清洗效果不佳;在空穴泡爆破的时候,巨大的能量会对硅片造成一定的损伤;kelisonic超声波清洗设备广泛应用于半导体前端各阶段清洗;